En un comunicado, los especialistas tambi\én reportaron que las propiedades del nuevo material h\íbrido se pueden controlar con precisi\ón, por lo que podr\ía ser una propiedad importante para el desarrollo de dispositivos electr\ónicos en tecnolog\ías futuras.
La idea de apilar capas de diferentes materiales para hacer las llamadas heteroestructuras surgi\ó en la d\écada de los a\ños 60, cuando se investig\ó el arseniuro de galio semiconductor para fabricar l\áseres en miniatura.
Actualmente, esas estructuras son comunes y se usan de manera amplia en la industria de los semiconductores.
Con el grafeno, surgieron nuevos tipos de heteroestructuras que para los cient\íficos es un potencial para crear numerosos materiales de dise\ño y dispositivos novedosos al apilar cualquier cantidad de capas at\ómicas delgadas.
Vladimir Falko, director del Instituto Nacional del Grafeno, afirm\ó que “al controlar la hibridaci\ón de los estados de los electrones en las heteroestructuras y tambi\én al utilizar efectos que son gen\éricos para las heteroestructuras de pel\ículas at\ómicas, se adquiere una nueva forma para adaptar las propiedades \ópticas de los materiales".
El trabajo se llev\ó a cabo en estrecha colaboraci\ón de especialistas de la Universidad de Sheffield, el Instituto Nacional de Ciencia y Tecnolog\ía de Ulsan (Rep\ública de Corea), el Instituto Nacional de Ciencia de Materiales (Jap\ón) y la Universidad de Oxford.